今回は濃密W保湿ケア シャンプーの全成分表示の見方について書いていきます。
濃密W保湿ケア シャンプーの全成分表示の見方
濃密W保湿ケア シャンプーの全成分表示は以下の通りです。
水、ラウロイルサルコシンTEA、パーム核脂肪酸アミドプロピルベタイン、コカミドメチルMEA、コカミドMEA、ココイルグルタミン酸TEA、ジステアリン酸グリコール、ココイルメチルタウリンNa、コメヌカ油、アンズ核油、チャ花エキス、カワラナデシコ種子エキス、ムクロジエキス、コメ胚芽油、ヒオウギエキス、ツバキ種子エキス、コメヌカエキス、塩化Na、クエン酸、ポリクオタニウム-10、グアーヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド、ポリクオタニウム-7、ポリクオタニウム-49、エタノール、BG、プロパンジオール、EDTA-2Na、安息香酸Na、香料、カラメル
のマーカー：洗浄成分
のマーカー：洗浄補助剤、起泡剤、増泡剤、増粘剤
のマーカー：ヘアコンディショニング剤
のマーカーで示した成分は配合率１％以下であると考えられます。
洗浄成分は のマーカーで示した成分です。
ラウロイルサルコシンTEA（アミノ酸系アニオン界面活性剤）：濃密W保湿ケア シャンプーの主な洗浄成分
パーム核脂肪酸アミドプロピルベタイン（両性界面活性剤）：洗浄剤、起泡剤
コカミドメチルMEA（非イオン界面活性剤）：アニオン界面活性剤との併用により、起泡力、洗浄力、泡質の向上。増粘。
コカミドMEA（非イオン界面活性剤）：アニオン界面活性剤の起泡力、洗浄力の向上。増粘剤、可溶化剤
ココイルグルタミン酸TEA（アミノ酸系アニオン界面活性剤）：濃密W保湿ケア シャンプーの主な洗浄成分
ココイルメチルタウリンNa（タウリン系アニオン界面活性剤）：濃密W保湿ケア シャンプーの主な洗浄成分
界面活性剤の洗浄力はアニオン界面活性剤＞両性界面活性剤、非イオン界面活性剤です。
アニオン界面活性剤の洗浄力の強さは硫酸系＞スルホン酸系＞石鹸系＞カルボン酸系＞アミノ酸系、タウリン系です。
濃密W保湿ケア シャンプーの主な洗浄成分はアミノ酸系アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン界面活性剤、タウリン系アニオン界面活性剤であることから、肌に優しいシャンプーだと考えられます。
その他の洗浄補助剤、起泡剤、増泡剤、増粘剤は のマーカーで示した成分です。
カワラナデシコ種子エキス：洗浄補助剤、起泡剤
塩化Na：増泡剤、増粘剤
ヘアコンディショニング剤は のマーカーで示した成分です。
ポリクオタニウム-10：シャンプー時の指通りを良くする効果や静電気を防止する効果があります。
グアーヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド：帯電防止、ヘアコンディショニング剤
ポリクオタニウム-7：帯電防止、ヘアコンディショニング剤
ポリクオタニウム-49：帯電防止、ヘアコンディショニング剤
その他の成分の特徴は以下の通りです。
水：基剤
ジステアリン酸グリコール：パール剤
コメヌカ油、アンズ核油、コメ胚芽油：エモリエント剤
チャ花エキス：抗酸化、抗老化、抗糖化
ムクロジエキス：抗菌、保湿（セラミド産生促進）、抗老化
ヒオウギエキス：抗炎症、細胞賦活
ツバキ種子エキス：抗酸化
コメヌカエキス：保湿、抗酸化
クエン酸：ｐＨ調整剤
エタノール、BG、プロパンジオール：溶剤
EDTA-2Na：キレート剤（金属イオンによる品質低下の防止）
安息香酸Na：防腐剤
カラメル：着色剤
